四氯化硅雜質分析分析系統

四氯化硅為有機化合物，主要用于化學工業及**生產。高純SiCl4是生產石英通信光纖的主要原料，也是國內外多年來生產電子級多晶硅的基本原料，但對四氯化硅的純度要求較高。

  生產工藝決定了產品中的雜質成分復雜，因此需要一套行之有效的分析方法分析四氯化硅產品的純度。對四氯化硅中的金屬雜質、硅含量及其中有機雜質成分進行分析，采用傅立葉紅外光譜儀定性分析了四氯化硅中有機雜質官能團，設計的一套密封取樣裝置有效避免了四氯化硅的水解等，提供了一種簡單有效的四氯化硅分析方法。

系統介紹

  主機采用德國布魯克款傅里葉紅外光譜儀：德國布魯克光譜儀器公司的TENSOR II型紅外光譜儀被國內外的生產四氯化硅行業當作是一款標準的設備。它是分區密封的光學臺，對四氯化鈦水解氣體的危害有非常好的防護作用。在儀器構造上由于采用無動態偏差的干涉儀、數字化檢測器、網絡化接口和自動校驗等技術，使得儀器工作更穩定、定量精度更高。TENSOR II 是同類臺式研究級紅外光譜儀中采用先進的二極管激光器的譜儀。此外，TENSOR II 的紅外光源增設了一個全新的電子穩壓處理功能。這些創新極大延長了紅外光譜儀上兩個主要易損部件的使用壽命，同時降低了您的維護成本和耗時。

儀器特點：

儀器具有靈敏度高，所有反射鏡均為鍍金鏡子，耐環境性能優； 儀器穩定，抗震性能優，采用90°角鏡，入射光與反射光永遠平行； 智能化程度高，能對儀器的各部分進行檢測，同時給出測試報告；儀器內部有校驗系統，對波數的精度、準確度，透光率的精度、準確度以及信噪比進行測量。

系統除紅外光譜儀器外，為保證樣品*隔離空氣的情況下，采取在線或離線裝取樣品，并在經過紅外光譜儀器分析測量以后，再安全地將樣品排除出去。特制的氣體取樣裝置，帶流量控制的氣體池，四氯化硅分析測試系統等。

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相關技術問題：4000294299